„Canon“: Tikimasi
Japonijos „Canon Corporation“ spalio 13 d. Paskelbė apie „FPA-1200NZ2C Nanoimprint“ (NIL) puslaidininkių gamybos įrangos atidarymą.„Canon“ generalinis direktorius „Fujio Mitarai“ pareiškė, kad naujoji bendrovės „Nanoimprinting“ technologija sudarys kelią mažiems puslaidininkių gamintojams gaminti pažangias lustus, ir ši technologija šiuo metu beveik visiškai priklauso didžiausioms pramonės įmonėms.
Aiškindamas nanoimprinavimo technologiją, „Canon“ puslaidininkių įrangos verslo vadovas Iwamoto Kazunori teigė, kad nanoimprinavimo technologija apima kaukės įspaudimą su puslaidininkių grandinės diagrama ant vaflio.Tik įspaudus vieną kartą ant vaflinio, atitinkamoje padėtyje gali būti suformuoti sudėtingos dvimatės arba trijų matmenų grandinės.Jei kaukė patobulinta, galima gaminti net produktus, kurių grandinės linijos plotis yra 2Nm.Šiuo metu „Canon's NIL“ technologija įgalina minimalų modelio linijos plotį, kad atitiktų 5NM mazgo loginį puslaidininkį.
Pranešama, kad 5NM lustų gamybos įrangos pramonėje dominuoja ASML, o „Canon“ nanoimprinavimo metodas gali padėti sumažinti spragą.
Kalbant apie įrangos išlaidas, Iwamoto ir Takashi pareiškė, kad klientų išlaidos skiriasi priklausomai nuo sąlygų, ir manoma, kad vienos litografijos proceso išlaidos kartais gali būti sumažintos iki pusės tradicinės litografijos įrangos.Nanoimprinavimo įrangos masto sumažėjimas taip pat palengvina tokias programas kaip tyrimai ir plėtra.„Canon“ generalinis direktorius „Fujio Mitarai“ pareiškė, kad bendrovės nanoimprinavimo įrangos produktų kaina bus mažesnė nei ASML EUV (ekstremalios ultravioletinių spindulių) įranga, tačiau galutinis sprendimas dėl kainų nustatymo dar nebuvo priimtas.
Pranešama, kad „Canon“ sulaukė daugybės užklausų iš puslaidininkių gamintojų, universitetų ir tyrimų institutų, susijusių su savo klientais.Kaip alternatyvus EUV įrangos produktas, labai tikimasi „Nanoimprinting“ įrangos.Šis įrenginys gali būti naudojamas įvairioms puslaidininkių programoms, tokioms kaip „Flash Memory“, asmeninis kompiuterio DRAM ir logika.
Pranešama, kad 5NM lustų gamybos įrangos pramonėje dominuoja ASML, o „Canon“ nanoimprinavimo metodas gali padėti sumažinti spragą.
Kalbant apie įrangos išlaidas, Iwamoto ir Takashi pareiškė, kad klientų išlaidos skiriasi priklausomai nuo sąlygų, ir manoma, kad vienos litografijos proceso išlaidos kartais gali būti sumažintos iki pusės tradicinės litografijos įrangos.Nanoimprinavimo įrangos masto sumažėjimas taip pat palengvina tokias programas kaip tyrimai ir plėtra.„Canon“ generalinis direktorius „Fujio Mitarai“ pareiškė, kad bendrovės nanoimprinavimo įrangos produktų kaina bus mažesnė nei ASML EUV (ekstremalios ultravioletinių spindulių) įranga, tačiau galutinis sprendimas dėl kainų nustatymo dar nebuvo priimtas.
Pranešama, kad „Canon“ sulaukė daugybės užklausų iš puslaidininkių gamintojų, universitetų ir tyrimų institutų, susijusių su savo klientais.Kaip alternatyvus EUV įrangos produktas, labai tikimasi „Nanoimprinting“ įrangos.Šis įrenginys gali būti naudojamas įvairioms puslaidininkių programoms, tokioms kaip „Flash Memory“, asmeninis kompiuterio DRAM ir logika.